Optimisation de l’épitaxie VLS du semi conducteur 4H-SiC. Réalisation de dopages localisés dans 4H-SiC par épitaxie VLS et application aux composants de puissance SiC
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Lieu :Amphithéâtre Claude Chappe du Bâtiment «Télécoms - Claude Chappe » , INSA de Lyon, campus de la DOUA.